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国内首台完全自主知识产权“光刻机”合肥面世

2007-12-26 08:01:20
华夏经纬网

    12月25日,合肥经济开发区管委会对外宣布,具有世界领先水平、完全属于自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功,这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。

    据介绍,光刻机项目之所以重大高端,是因为它是生产电子芯片的最关键设备,用于制造电子元器件上的集成电路图案。同时,中国是全球集成电路的最大消耗国,据统计所用集成电路占全球的24%以上,但是国产集成电路国内市场自给率却少于10%,因此,光刻机被国家“十一五”发展规划明确定义为重点制造装备。据了解,该无掩膜式(直写式)光刻机分辨率为0.65微米,可应用于半导体行业、生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域。

    据开发该产品的芯硕半导体(中国)有限公司介绍,该项目落户合肥后,从2006年12月开始,只用了一年时间就研发出首台设备。根据规划,此后该公司将进行大规模生产,一期工程将于明年9月份正式完工。(卓也)

来源:安徽商报

     
 

 

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